(P52-P0043)高周波マグネトロンスパッタリング法による高効率エレクトロクロミックWO３薄膜の作製

摘要

エレクトロクロミック（EC）現象とは，材料に外部から電荷を注入することで色が可逆的に変化する現象である．主要なEC 材料として酸化タングステン（WO3）膜があり，無色から青色に変化し，調光デバイスとして実用化されている．WO3 膜の堆積にはさまざまなプロセスが利用できるが，大面積への膜厚の均一性と制御性から，スパッタリング法による成膜が優れている．従来，スパッタリング成膜されたWO3 膜は，緻密な膜構造のため色変化幅が小さいという課題があった．近年，中野らにより，比較的高圧における反応性スパッタリング法によって成膜されたWO3 膜が，大きな色変化幅を有することが報告された．しかし，反応性スパッタリング法では，適切な酸素分圧の条件が厳しく，膜特性の制御が困難である．そこで本研究では，WO3 ターゲットを用いた高周波マグネトロンスパッタリング法により，色変化幅の大きな高効率EC 特性を示すWO3 膜の堆積を目的とする．