超並列電子線描画装置のためのピアース型ナノ結晶シリコン電子源アレイの作製

摘要

そこで本研究では、湾曲面を持つ面電子源、すなわちピアース型電子源アレイを用いることを提案する（図1）。nc-Si 電子源から放出される電子は弾道電子であるため、ビームの広がりは小さい。また、電子線は曲面の法線方向に放出されるので、電子源自体に集束機能が備わっており、必要な平行ビームの形成が可能になる。本論文では、LSI集積化ピアース型nc-Si電子源アレイの実現を目的とし、作製·集積化プロセスを構築し、その要素技術を開発した結果について報告する。