首页> 外文会议>日本金属学会秋期大会 >(246-0388)Si 微粒子とAl の混合インサート材によるSiC の低温接合と接合部再溶融温度の高温維持
【24h】

(246-0388)Si 微粒子とAl の混合インサート材によるSiC の低温接合と接合部再溶融温度の高温維持

机译:(246-0388)SiC和高温维持联合重组温度的低温键合,Si细颗粒和Al混合插入材料

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摘要

SiC は耐熱·耐酸化性など優れた特性を有する反面、大型·複雑形状部材の一体形成が難しく、小型·単純系状部材の接合による組み立てが必須である。我々はこれまで、SiC 接合部の耐熱·耐酸化性を維持した接合温度低減のため、Si をインサート材とする接合法を検討してきた。Si 微粒子ペーストを用いた焼結層形成による接合で、接合温度を1300°Cまで低減できたが、接合強度向上のためのSi 焼結層緻密化には限界がある。一方、Si の融点(約1400°C)を超える高い接合温度では、Si微粒子の溶融·凝固によりボイドのない緻密な薄いSi 層が形成され、母材の破壊強度と同等以上の接合強度が得られた。本研究では、融点降下元素としてAl をSi 微粒子ペーストと混合することで、より低い接合温度でSi を溶融させるとともに、蒸気圧が高くSi 中の固溶限が小さいAl のみを蒸発·除去させることで、接合部再溶融温度をSi の融点と同等程度に維持する方法を検討した。接合部微細組織の接合温度依存性を明らかにし、その形成機構と再溶融温度向上指針について考察した。
机译:由于SiC具有优异的特性,例如耐热性和耐氧化性,因此大型和复杂形状的构件的整体形成是难以的,并且通过基于小型和简单的构件的粘合来组装是必不可少的。迄今为止,为了降低接合温度保持SiC连接的耐热性和耐氧化性,硅被认为是插入件。虽然接合温度可以通过烧结用Si微粒糊层形成接合降低到1300℃,烧结的Si层的致密化以改善接合强度是有限的。另一方面,在超过Si(约1400℃)的熔点的高键合温度下,通过熔化和凝结Si细颗粒的熔化和凝固而形成的致密薄Si层,以及相等或高于或高于或高于获得母材的断裂强度。当时能。在这项研究中,通过混合Al作为熔点降低元素与Si微粒糊,使Si在较低接合温度下熔化,而只有蒸汽压力高,并且仅在Si中固溶极限蒸发除去。在将关节再熔化温度保持在Si的熔点的方法中。阐明了关节微观结构的键合温度依赖性,并讨论了地层机理和重新升压改善引导。

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