(97-0097)四塩化シリコンのClean Conversion 反応解析シミュレーション

摘要

半導体用シリコンを製造するためのシーメンス法と呼ばれる製造プロセスの反応過程で多量に副生されるSiCl_4 の処理方法の一つとしてClean Conversion が提案されている。この方法は一般的に高温でSiCl_4 と水素ガスを原料とするガスを流通させ、水素還元することによってSiHCl_3 を生成させる。本研究ではPlug Flow Reactor (PFR)におけるClean Conversionに関する化学反応を表す反応モデルを構築すること、およびその反応モデルを用いて、温度および組成をパラメータとしたシミュレーション解析を行うことを目的としている。