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ピラミッド構造研磨パッドによるシリコンウェハポリシングにおける砥粒切れ刃摩耗

机译:抛光垫硅晶片抛光中的金字塔结构磨粒叶片磨损

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摘要

現在,表面仕上げ研磨法においては遊離砥粒研磨が主流となっているが, 使用済みスラリーの処理法の確立といった環境負荷の低減が求められている.このような中,遊離砥粒研磨に代わる加工技術として固定砥粒研磨が注目されており,加工能率の向上,環境負荷の低減が期待されている.本研究では,固定砥粒研磨法の一つであるピラミッド構造研磨パッドによる研磨加工法に着目した,シリコンウェハの研磨加工への適用に向けた基礎的研磨特性を検討している.これまでに,砥粒径,研磨液,ドレッシング条件等が及ぼす影響について明らかにしてきたが,本報では砥粒切れ刃の摩耗挙動に着目し,パッド寿命について検討したので報告する.
机译:目前,在表面光洁度抛光中,自由磨粒抛光是主流的,但已经建立了环境负荷减少,例如建立加工浆料。这种固定磨粒抛光是吸引注意力,作为更换自由磨粒抛光的加工技术,并预期加工效率的改善和环境载荷的降低。在该研究中,我们正在检查硅晶片以抛光方法的基本抛光特性,该抛光方法通过金字塔结构抛光垫聚焦抛光方法,这是固定磨料抛光方法之一。到目前为止,已经澄清了磨粒粒度,抛光液,敷料条件等的影响,但在本报告中,我们专注于磨料切削刃的磨损行为并报告垫寿命。

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