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一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液

摘要

本发明涉及一种能够延长抛光垫使用寿命的硅晶片精抛光液,本发明属于化学机械抛光领域,本发明抛光液包括二氧化硅溶胶、碱性化合物、去离子水余量,还包括聚阴离子纤维素、小分子无机非金属桥联剂、水溶性聚合物和胍基化合物。本发明的抛光液减少抛光垫表面毛囊磨损及内部孔的堵塞,显著延长硅晶片最终抛光过程中的抛光垫使用寿命;同时提高了最终抛光后硅晶片表面均匀性。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-17

    授权

    授权

  • 2015-04-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20141210

    实质审查的生效

  • 2015-04-01

    公开

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