magnetron sputtering plasma; optical emission spectroscopy; flow rate of nitrogen gas;
机译:磁控溅射系统中Ar-Ti等离子体的空间发射光谱和吸收光谱
机译:N2 / Ar流量比对大功率脉冲磁控溅射沉积AlCrSiN涂层组织和性能的影响
机译:在金属,过渡和中毒模式下操作的AR / O-2混合物中Ti反应性溅射过程中的等离子体表征:直流和高功率脉冲磁控管排放的比较
机译:N2流速对高压磁控溅射系统等离子体AR和TI发射的影响
机译:通过磁控溅射等离子沉积碳化铍。
机译:射频磁控溅射在不同N2 / Ar气体流量下生长的Zn3N2薄膜的XPS深度剖面分析
机译:N2 /空气流量比对大功率脉冲磁控溅射沉积alCrsiN涂层组织和性能的影响