EB lithography; EUV lithography; NEMS; MEMS; cellulose; plant products; green lithography; biomass;
机译:适于水基处理的不可食的纤维素基生物质抗蚀剂材料,用于电子束光刻
机译:使用EUV光刻技术的hp 2x-nm设备的抗蚀剂材料和工艺的进展
机译:使用EUV光刻技术的hp 2x-nm设备的抗蚀剂材料和工艺的进展
机译:使用不可食用的纤维素基生物质抗蚀剂材料进行EB和EUV光刻
机译:用于EUV光刻的液滴激光等离子体源的碎片表征和缓解。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:不可食用的基于纤维素的生物质抗蚀剂材料适合于用于电子束光刻的水基处理
机译:光化掩模成像:sHaRp EUV显微镜的最新结果和未来方向。会议:极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:期刊出版日期:2014年4月17日。