机译:非易失性存储器氢退火非晶SiO_2结构和Si / SiO_2界面的第一性原理计算
机译:在潮湿的O_2和N_2O环境中进行后氧化退火对p沟道MOS器件热生长的SiO_2 / 4H-SiC界面的影响
机译:干O_2氧化和H_2O氧化的红外光谱表征在4H-SiC上生长的热氧化物在SiO_2中近界面应变的差异
机译:第一个原理研究V-MOSFET中Si / SiO_2接口热氧化和氢退火效应的应变依赖性
机译:二氧化钛(110)表面和硅(100)/二氧化硅界面的第一原理理论研究。
机译:Pd-SiO2界面上氢吸附的第一性原理研究
机译:金属氧化物界面的氢释放:第一个原理研究 氢化al / siO $ _2 $界面