WO_3 thin film; DC magnetron sputtering; decorative;
机译:射频磁控溅射TiO 2薄膜的结构和光学性质的研究:衬底温度和Ar:O_2比的影响
机译:Ar / O_2气比对磁控溅射合成Na掺杂ZnCdO薄膜结构,电学和光学性质的影响
机译:O_2 / Ar气体混合物中O_2对直流圆柱磁控溅射沉积TiO_2薄膜的形貌和光学性质的影响
机译:用AR / O_2通过PVD磁控溅射对WO_3膜微观结构,电气和装饰性能的研究
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:射频磁控溅射沉积ZnO薄膜的微观结构及其电学和光学性质的厚度依赖性