CIGS; magnetron sputtering; quaternary target; substrate temperature.;
机译:在不同衬底温度下通过四元靶离子束溅射沉积制备Cu(In,Ga)Se_2薄膜
机译:黄铜矿Cu(In,Ga)Se_2四元合金和In靶溅射制备Cu(In,Ga)Se_2薄膜
机译:四元靶溅射制备Cu(In,Ga)Se_2薄膜的电子性能与微观结构的关系
机译:基质温度对季靶溅射制备的Cu(河内)SE_2 SE_2薄膜性能的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:通过共溅射和溅射气体聚集获得的CO-Cu薄膜的磁传输性能
机译:衬底温度对氧气和水在氢气中反应溅射制备氧化钴和羟基氧化物薄膜电致变色性能的影响