Annealing temperature; ZnO thin films; DC magnetron reactive sputtering; TCO;
机译:直流反应磁控溅射沉积Ga掺杂ZnO薄膜的特性与衬底温度的关系
机译:通过脉冲直流磁控溅射以不同的溅射功率和衬底温度沉积的Ga掺杂ZnO薄膜及其性能改善潜力
机译:衬底温度对带有旋转圆柱靶的脉冲直流磁控溅射沉积的光伏电池用掺杂Ga的ZnO薄膜性能的影响
机译:真空退火温度对DC磁控反应溅射沉积的Ga掺杂ZnO膜性能的影响
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:直流磁控溅射沉积TiO2薄膜的生物相容性和表面性质
机译:非反应性射频磁控溅射沉积Ga掺杂ZnO薄膜的缺陷-导电关系的制备与表征