首页> 外文会议>精密工学会大会学術講演会 >ルビジウム飽和吸収を用いた780nm帯DBR周波数安定化レーザの開発と変位計測への応用
【24h】

ルビジウム飽和吸収を用いた780nm帯DBR周波数安定化レーザの開発と変位計測への応用

机译:使用铷饱和吸收的780nm带DBR频率稳定激光的开发和位移测量

获取原文

摘要

超微細加工技術の進展に伴い,加工精度にナノメートル(nm)以下を要求する事例が増えている.加工精度は相対的なものでなく絶対的となり,かつ製品寸法の大きさに無関係になるものと予想する.比較的大きな寸法(1mオーダ)の製品でも将来的には全体の絶対加工精度にnm以下を要求する時代が来る(例えばEUVリソグラフィ投影ミラーの寸法と形状公差はそれぞれ1mオーダ,10pmである).もし最大1mの任意の長さを10pmオーダ不確かさで,絶対計測すれば,革新的工業製品の創成が可能である.
机译:随着超精细加工技术的进展,在处理精度需要纳米(Nm)或更小的情况下有更多的情况。处理精度不相互作用,但绝对和预期与产品维度的大小无关。相对较大尺寸(1米有序)的时期也是需要NM或更低的时间到整体绝对处理精度(例如,EUV光刻投影镜的尺寸和形状公差分别为1米和10μm)。如果是1米的10 PM,则10 PM的顺序是不确定性,如果绝对测量,则可以创建一个创新的工业产品。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号