Reactive sputtering; Ion implantation; Recoil implantation;
机译:部分氧化金属靶标的O原子的分布,以及对单个金属氧化物的反应性溅射的后果
机译:非均匀靶标中毒对反应性直流磁控管放电中溅射的原子能量分布的影响
机译:反应磁控溅射过程中的靶中毒:第一部分:离子注入的影响
机译:金属靶的反应溅射:活性原子植入的影响
机译:目标温度对金属氧化物的直流反应溅射沉积的影响。
机译:溅射赤铁矿光阳极的电化学:金属直流溅射与无功射频溅射的比较
机译:金属靶反应磁控溅射制备Ba(ZrxTi1-x)O3薄膜的结构和高频介电性能
机译:反应溅射W-N薄膜作为Gaas金属化中的扩散障碍