机译:射频磁控溅射在不同衬底温度下制备的BaTiO3薄膜的结构和光学性质
机译:偏压对双胞胎术反应高功率脉冲磁控溅射制备的Al2O3薄膜微结构和光学性能的影响
机译:溅射压力对Basn0.15Ti0.8503薄膜结构和介电可调性能的影响
机译:使用金属靶标的反应磁控溅射制备的BA(Zr_XTI_(1-X))O3膜的结构和高频介电性能
机译:金属有机化学气相沉积法制备钽酸钽铌酸钾薄膜的结构,介电和光学性质
机译:射频磁控溅射制备基于特定用途的氧化物基和金属介电薄膜材料
机译:反应直流磁控溅射制备可见活性光催化WO3薄膜的结构和光学性质