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一种防止微波反应溅射台靶中毒的金属靶装置

摘要

本发明涉及一种防止微波反应溅射台靶中毒的金属靶装置,它属于金属淀积技术领域。本发明是由两只半圆弧状的金属靶相对安置构成,在金属靶的外围安置一个圆筒。本发明能够使金属靶与圆筒之间没有起辉、拉弧的迹象,溅射炉炉壁及金属靶也没有溅射附着物,金属靶内壁起辉正常,实施本发明节约金属靶材料50%;节约轰击能量50%;大大减少附壁效应,即降低炉壁污染;提高沉积速率一倍,除仍然适合纳米膜的沉积外,也能够沉积微米膜。

著录项

  • 公开/公告号CN102071400A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 张敬祎;

    申请/专利号CN201110038705.9

  • 发明设计人 张敬祎;

    申请日2011-02-11

  • 分类号C23C14/34;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 山东省青岛市机械研究所

  • 入库时间 2023-12-18 02:34:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-06-05

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C14/34 申请公布日:20110525 申请日:20110211

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2012-01-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/34 申请日:20110211

    实质审查的生效

  • 2011-05-25

    公开

    公开

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