PZT; multilayer ferroelectric thin film; sputtering;
机译:Pb(Zr_(0.8)Ti_(0.2))O_3 / Pb(Zr_(0.2)Ti_(0.8))O_3多层膜的介电和铁电性能增强
机译:Pb(Zr_(0.8)Ti_(0.2))O_3 / Pb(Zr_(0.2)Ti_(0.8))O_3多层薄膜的介电和铁电性能的取向依赖性
机译:具有特殊Pb(zr_(0.2),ti_(0.8))o_3的高度(100)取向的0.67pb(mg_(1/3)nb_(2/3))o_3-0.33pbtio_3薄膜的增强铁电和介电性能/ pbo_x双层缓冲层
机译:应变增强的PB(Zr_(0.8)Ti_(0.2))O_3 / PB(Zr_(0.2)Ti_(0.8))O_3多层薄膜而无缓冲层的介电和铁电性能
机译:La0.7Sr0.3MnO 3 / PbZr0.2Ti0.8O3异质结构的同步加速研究。
机译:Ni0.8Fe0.2 / Ti纳米多层膜的结构和磁性
机译:厚度对Ni取代Pb(Zr 0.2 sub> Ti 0.8 sub>)O 3 sub>薄膜的介电,铁电和光学性能的影响
机译:pb0.8sn0.2Te外延薄膜的电学特性。