斜め堆積法により作製した微細構造化ITO薄膜の透過率スペクトル

摘要

酸化インジウム·スズ（ITO）薄膜は，可視光領域で透明で，高い導電性を有することから仁液晶ディスプレイを始め，現代のほとhどすべての表示デバイスにおいて，透明導電層として利用されている．最近，ITO薄膜が紫外波長領域において，吸着誘起型エレクトロクロミック（AiEC）特性を示すことが報告された．しかしその光透過率変化量は低く, 調光材料としての実用性には乏しい．一方，同じAiEC特性を示す窒化インジウム（InN）では，小腸内壁細胞膜のような微細構造を付与することにより，表面積を増やすことで透過率変化量を増大させることに成功している．そこで本研究では，ITO薄膜の堆積プロセスに斜め堆積法を適用し，柱状構造を作り表面積を増やすことを目的とする．