パルス·スパッタ法によるTiCN膜の作成

摘要

TiN、TiC、TiCNやDLC膜は、工具等の硬質コーティング材料として知られている。これらのコーティング膜は、種々のPVD法やCVD法で作成されているが、PVD法では、イオンを用いることで膜の微細構造を制御することができる。PVD法の一つであるスパッタ法は、安全で簡便な手法であることから、産業界でも広く普及している方法である。しかし、通常のスパッタ法ではスパッタ粒子はほとhどイオン化されないため、イオンを用いた構造制御は必ずしも容易ではない。一方、プラズマ利用イオン注入（PBII）法は、イオン照射あるいはイオン注入を容易に行うことができ、膜の微細構造や特性を改質することが可能であるという特徴がある。これまで、PBII法を用いてDLC膜を作成し、負パルス電圧を印加することによりイオン衝撃を行い、膜の微細構造や特性を制御できることを報告したり。スパッタ法と開眼法を組み合わせることにより、PBIIによるイオン衝撃が可能となり、スパッ動こよる成膜においても、微細構造の制御に有効であると期待される。