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用磁控溅射法制备Nb-NbN复合膜来改善射频超导加速器铌膜超导性能的研究

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随着射频超导谐振腔在粒子加速器中的广泛应用,提高铜铌溅射型薄膜超导腔的加速性能、改善铌(Nb)膜的Q-slope影响是重离子超导直线加速器的研究热点之一.本文用磁控溅射法制备了铌(Nb)膜和Nb-NbN复合膜.用X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)来比较两种薄膜的特点,发现Nb-NbN复合膜有效地阻止了铌膜的氧化,这可能成为提高薄膜超导腔加速性能的有效方法.

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来源
《2006全国荷电粒子源、粒子束学术会议》|2006年|306-308|共3页
会议地点武汉
作者
李欣; 陈强; 辛天牧; 廖成; 郝建奎; 焦飞;
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作者单位

中国物理学会;

中国电工技术学会;

中国电子学会;

中国电机工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类直线加速器;加速器结构和制造工艺;
关键词
磁控溅射; 薄膜超导腔; 氮化铌; 射频超导; 直线加速器;
入库时间 2022-08-17 10:32:19

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