气体脉冲反应溅射法制备Al₂O₃阻氚涂层的方法

摘要

本发明公开一种气体脉冲反应溅射法制备Al₂O₃阻氚涂层的工艺，该工艺包括基片预处理、偏压反溅清洗、采用高真空反应磁控溅射设备在CLF‑1基材表面沉积Al₂O₃阻氚涂层、退火等步骤，溅射工艺中O₂流量周期性变化。本发明提供的方法，操作简单，制得的Al₂O₃涂层具备多层和成分梯度杂化双相结构，退火后α‑Al₂O₃更容易成相，CLF‑1基体材料氧化程度显著降低。