Design and Fabrication of a MEMS X-ray Optic using Anisotropic Wet Etching of Si Wafers

机译：使用Si晶片的各向异性湿法蚀刻MEMS X射线光学器件的设计和制造

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In this paper, we report on the development of X-ray optics using anisotropic wet etching of silicon wafers. Both X-ray mirrors and an optics mount are fabricated fully using the MEMS technologies

机译：在本文中，我们使用硅晶片的各向异性湿法蚀刻报告X射线光学器件的开发。 X射线镜和光学贴安装均由MEMS技术完全制造

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来源
《IEEE/LEOS International Conference on Optical MEMS and Their Applications Conference》|2006年||共2页
会议地点
作者
Koshiishi M.; Ezoe Y.; Mita M.; Mitsuda K.; Takano T.; Maeda R.; Ishisaki Y.;
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作者单位

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种
中图分类自动化技术、计算机技术;
关键词
X-ray optics; elemental semiconductors; etching; micro-optomechanical devices; micromirrors; optical design techniques; optical fabrication; silicon; MEMS X-ray optics design; MEMS X-ray optics fabrication; Si; X-ray mirrors; anisotropic wet etching; optics mount; sil;

机译：X射线光学器件;元素半导体;蚀刻;微光机械设备;微镜;光学设计技术;光学制造;硅;MEMS X射线光学设计;MEMS X射线光学制造;Si;X射线镜;各向异性湿蚀刻;光学坐骑;SIL;

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