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低圧斜め堆積法により作製したバイオミメティックInN薄膜のエレクトロクロミック特性

机译:低压对角线沉积法制备的生物摩米铭薄膜的电色敏性质

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摘要

InN薄膜はエレクトロクロミック(EC)現象を示し,その色変化は膜表面吸着物交代反応に起因するため,表面積を拡げることにより色変化量が増大する.我々は,斜め堆積法を適用した反応性イオンプレーティングおよび反応性スパッタリングにより,微械毛構造を有するInN薄膜の作製を行ってきたが,両手法とも基板近傍にプラズマを維持するため,成膜圧力に下限があり,斜め堆積における微細構造制御性に問題があった.
机译:INN薄膜表示电致变色(EC)现象,其颜色变化是由于薄膜表面吸附的交替反应,因此通过膨胀表面积来增加颜色变化量。我们已经制造了具有通过反应离子镀层具有微毛结构的INN薄膜,并且施加倾斜沉积方法的反应溅射,但两种方法也形成为在基板附近保持等离子体。压力较低极限,并且对角沉积中的微结构可控性存在问题。

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