Diamond-like carbon; RF-plasma CVD; Spraying; Ti-DLC;
机译:电子束激发等离子体CVD法合成B-C-N薄膜的力学性能
机译:粉末制备方法对反应性等离子喷涂锡基涂层腐蚀和力学性能的影响
机译:磁控溅射技术制备不同Ti含量的Ti-DLC薄膜的力学和摩擦学性能
机译:等离子体喷涂CVD法制备Ti-DLC膜及其机械性能
机译:通过沉积方法和膜厚控制和设计PECVD碳掺杂低k二氧化硅薄膜的关键性能。
机译:在没有基板加热的情况下通过ECR Ar等离子增强CVD生长的掺杂B原子层的Si薄膜的载流子特性
机译:薄膜制备,结构和性质。血浆CVD制备.Beta.-Zrcln薄膜。
机译:mOCVD法制备VOx和TiO2薄膜及其结构与性能。