準大気圧プラズマCVDによる高濃度CF_4原料ガスからのフルオロカーボン膜の成膜特性

摘要

プラズマ重合フルオロカーボン膜（PPFC膜）は、耐候性、耐薬品性、電気絶縁性、さらには撥水性など数々の優れた特性を有する機能膜として注目されており、電子デバイスの層間絶縁膜や、撥水性を活かした防水コーティング剤など、多岐に亘る分野で応用されつつある。ここで、プラズマ重合に用いられる原料ガスは、C_4F_8やC_6F_6といった高次の炭素数からなるガスがほとhどであり［1-2］、これらのフルオロカーボンガスは高価であるという難点がある。そこで本研究では、より廉価·高速なPPFC膜の形成に向け、廉価なCF_4を原料ガスに用い、その高圧·高濃度雰囲気下でのプラズマCVD法を試みた。今回は、本成膜法における成膜特性を調査したので、その結果を報告する。