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张一鸣; 钟启秀;
不详;
氮化硅; 薄膜; 电子回旋共振; CVD沉积;
机译:使用Ecr-Cvd等离子体沉积的氮化硅膜对Ingap / gaas Hbt进行表面钝化
机译:等离子体化学对通过使用PECVD混合两个频率的功率在低温下沉积的功能氮化硅膜特性的作用
机译:在室温下使用脉冲PECVD在SiH_4-NH _3等离子体下沉积的氮化硅膜的占空比控制反射特性
机译:高质量的高质量,纳米厚的氮化硅膜在电子回旋谐振(ECR)等离子体增强CVD系统中的低温沉积
机译:对二氧化硅膜的热化学气相沉积(CVD)和多晶硅膜的高密度等离子体CVD过程中颗粒形成和传输的研究。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:钻石电影的特殊问题/沉积方法,表征和应用。使用磁性活性等离子体CVD和微波等离子体CVD沉积金刚石膜。
机译:ECR等离子体合成Gaas和Insb上的氮化硅膜
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)氮化硅阻挡层,用于高密度等离子体化学气相沉积(HDP-CVD)介电层
机译:用等离子体CVD法沉积蒸气沉积膜的等离子体处理用气体补给件,以及使用该气体补给膜沉积气相沉积膜的方法
机译:沉积氮化硅膜,计算机可读存储介质,等离子体CVD装置和半导体存储器的方法
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