RFプラズマ溶射による金属基材上へのSi皮膜の作製

摘要

これに対しこれまでに著者らは、非酸化物セラミックスの成膜が可能であり、厚膜の作製が容易な反応性RFプラズマ溶射法を用い、グラファイト基材上へのSi_3N_4皮膜の作製実績を報告した。Si_3N_4は高硬度で耐熱衝撃性、耐摩耗性に優れ、高温材料として期待されている。しかし、グラファイトは機械的強度が低く構造用材料としては適していない。そこで、本研究では金属基材上にSi_3N_4皮膜を作製することを最終目的とし、その基礎実験として同溶射装置を用い、各種金属基材上へのSi溶射皮膜の形成を試みた。また作製皮膜の特性評価を行った。