MDP; mask writing; mask inspection; Mask Data Rank (MDR); design intent; character projection (CP); multi column cell (MCC); mask DFM;
机译:使用空白检查,图案化掩模检查和晶圆检查来评估极端紫外线掩模缺陷
机译:优化100纳米以下设计以降低掩模成本
机译:优化100纳米以下设计以降低掩模成本
机译:MDP,掩模写入,ANDMASK检查的同时优化,用于掩模制造成本降低
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:感觉处理:通过结合信号增强和掩蔽减少功能在下丘中释放共调制掩蔽
机译:冠状二元法制备技术的比较研究 瞳孔面罩:基板上的面罩和独立面罩