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【24h】

Study on Crystal Quality of RF Magnetron Sputtered Si{sub}(1-x)Ge{sub}x Films for Thermoelectric Applications

机译:RF磁控溅射Si {Sub}(1-x)Ge×X膜热电应用晶体质量研究

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摘要

Improved polycrystalline characteristics have been demonstrated for Si{sub](1-x)Ge{sub}x thin films, which are deposited on (001) n-Si substrates by optimizing RF magnetron sputtering, annealed in high temperature environment and characterized by X-ray diffraction measurements.
机译:已经通过优化RF磁控溅射沉积在(001)N-Si基板上的Si {sub](1-x)ge {sub} x薄膜来证明改善的多晶特征。通过在高温环境中退火并表征x - 射线衍射测量。

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