TiO_2 film; magnetron sputtering; surface wettability; nanomechanical property;
机译:溅射参数对射频磁控溅射沉积方法制备的TiO_2薄膜物理性能和光催化活性的影响
机译:射频功率和溅射压力对射频磁控溅射制备的TiO_2薄膜的结构和光学性能的影响
机译:磁控溅射制备的共沉积Ti-Cr薄膜的微观结构和纳米力学性能
机译:磁控溅射制备的TiO_2薄膜的纳米机械性能和表面润湿性
机译:射频磁控溅射未掺杂镧锰矿薄膜的结构,磁性和表面特性。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:射频磁控溅射沉积BiFeO3薄膜的结构和纳米力学性能