X-ray diffraction; structure of clean surfaces (reconstruction); nucleation and growth: microscopic aspects; molecular, atomic, ion, and chemical beam epitaxy;
机译:Ⅲ/Ⅴ比对分子束外延生长在4H-SiC(1120)衬底上生长的AlN的类型和晶体质量的影响
机译:初始Ⅲ/Ⅴ比对射频等离子体辅助分子束外延生长的AlN层晶体质量的强烈影响
机译:通过分子束外延在4H-SiC(1120)衬底上生长的高质量非极性4H-AlN
机译:SiC表面控制对分子束外延生长的初始生长模式和晶体质量的影响
机译:AlN,4H-SiC,3C-SiC和ZrB2衬底上磷化硼的外延。
机译:钼板封盖提高六角形SiC表面生长的外延石墨烯的结晶度
机译:通过分子束外延在4H-SiC(11(2)over-bar20)衬底上生长的高质量非极性4H-AlN