lithography; photostabilization; i-line Photoresist; anti - reflecting coating; UV Bake;
机译:通过光稳定双层光致抗蚀剂用248 nm光刻进行纳米图案化
机译:光稳定度:比较DUV和i-line
机译:由多功能丙烯酸酯,光引发剂和光产酸剂组成的I线光刻胶,可在g线光交联后进行构图
机译:i-line光刻胶和ARC层的光稳定性
机译:i-line和DUV光刻胶的光刻性能及其在先进集成电路技术中的应用。对苯二甲酸二辛酯(5-)作为细胞外空间标记物和NMR移位试剂,用于定量测定组织。人工湿地中铬(IV)的化学性质。
机译:几乎没有像差的多光子聚合成厚光刻胶层
机译:几乎无像差的多光子聚合成厚的光致抗蚀剂层