Amorphous silicon; Ion Bombardment; Langmuir Probe; PECVD; Plasma Regime;
机译:等离子体制度对a-Si:H薄膜的结构,光学和传输性质的影响
机译:硅烷流量对通过热线化学气相沉积(HW-CVD)技术沉积的a-Si:H薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:氦稀释对等离子体增强化学气相沉积技术制备的a-Si:H薄膜的光电性能的影响
机译:等离子体制度对A-Si:H薄膜结构,光学和运输性能的影响
机译:可溶液处理的半导体薄膜:形态,结构,光学和电荷传输性质之间的相关性
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:Zn等离子体动力学对PLD生长ZnO薄膜结构和光学性质的影响
机译:a-si:H薄膜的光伏和结构特性。第五季度技术报告,1981年6月1日至8月31日