excimer laser; microlithography; 157 nm laser; F_2 laser;
机译:用于微光刻和相关高级聚合物材料的抗蚀剂的开发
机译:开发用于微光刻的新型先进抗蚀剂材料
机译:用于高级微光刻的肟磺酸盐化学
机译:先进的微光刻F_2激光
机译:用于高级微光刻的材料:用于157 nm光刻和酸扩散测量的聚合物。
机译:使用具有倾斜旋转样品架的5毫米UV-LED集成系统进行3D微光刻
机译:开发新型抗蚀剂材料的微光线
机译:用于高级微光刻的聚合物抗蚀剂系统