机译:耐等离子改性I线,深紫外线和电子束抗蚀剂
机译:用石英晶体微天平(QCM)方法研究聚合物结合和聚合物共混光致产酸剂(PAG)的溶解行为
机译:聚合物结合和聚合物混合光酸发生剂的抗性研究
机译:I型抗蚀剂配方中的聚合物结合敏化剂
机译:基于高氯酸盐氧化剂的推进剂配方的电阻率研究
机译:新型抗酒精诱导的剂量倾销延长释放配方的开发和优化
机译:使用液相甲硅烷基化的I线抗蚀剂的顶表面成像光刻工艺
机译:候选驱虫剂的皮肤敏化潜力:LaIR配方(CHF1)N-(正辛基)戊二酰亚胺(CHR2)N-(正己基)戊二酰亚胺(CHR3)(E)1,2,3,4-四氢-6-甲基-1-(2-甲基-1-氧代-2-丁烯基)喹啉(CHR5)1,2,3,4-四氢-6-甲基-1-(3-甲基-1-氧代-2-丁烯基)喹啉(CHR6)。