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DLTS investigation of impurity or defect agglomerates in silicon on the example of oxygen precipitates

机译:DLT在氧气沉淀的实例上调查硅中硅中的杂质或缺陷凝聚物

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摘要

DLTS technique can be applied to the investigation of local inhomogeneities in the distribution of defects or impurities with deep levels. This method has been used for study of oxygen precipitate (OP) formation at 600-900 deg C. OP formation proceeds through the oxygen rich local areas creation in silicon matrix. The accumulation of oxygen atoms in these areas leads with annealing time to the phase transformation.
机译:DLTS技术可以应用于临床缺陷或杂质分布的局部不均匀性的研究。该方法已被用于600-900℃的氧沉淀物(OP)形成研究Op形成通过硅基矩阵中的富氧局部区域进行。在这些区域中的氧原子的积累导致反相变换的退火时间。

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