机译:CAT-CVD SIN_X薄膜钝化质量的厚度依赖性
机译:通过Cat-CVD法制备用于底栅型TFT的SiN_x栅绝缘膜
机译:通过Cat-CVD法在80℃以下的低温下以100 nm / min的速率高速沉积SiN_x膜
机译:GaAs的新型表面清洁和CAT-CVD方法的高质量SIN_X薄膜形成
机译:表征氢蚀刻和/或清洁的氢-6-碳化硅(0001)表面上氮化铝和氮化镓薄膜的生长。
机译:不同灭菌方法对氧化锆表面特性和生物膜形成的影响
机译:局部可用清洁方法在从家用储水容器中除去生物膜的疗效
机译:用各种湿法技术清洗Gaas(100)表面薄银膜的外延质量