extreme ultraviolet lithography (EUVL); merchant mask manufacturers; original equipment manufacturers (OEMs); advanced mask characterization (AMC); mask rule check (MRC);
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机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
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机译:冠状二元法制备技术的比较研究 瞳孔面罩:基板上的面罩和独立面罩