首页> 外文会议>応用物理学会学術講演会;応用物理学会 >窒化ガリウムナノピラー中プラセオジム(Pr)の室温での発光強度増幅
【24h】

窒化ガリウムナノピラー中プラセオジム(Pr)の室温での発光強度増幅

机译:氮化镓纳米铝(PR)室温下的发光强度扩增

获取原文

摘要

光子を1個ずつ任意のタイミングで発生できる単一光子源は、量子情報通信や量子コンピューターといった量子技術の実現において必要とされている。窒化ガリウム半導体(GaN)中の孤立したランタノイド(Ln)は、室温でも狭い線幅で高輝度の発光を示し、電流注入による発光制御ができることから、SoC(システムオンチップ)単一光子源への応用が期待できる。そこで我々は、Lnの一種であるプラセオジム(Pr)の単一光子発生制御に関する研究を進めている。今回は、GaN ナノピラー中Prのフォトルミネッセンス(PL)強度増幅について報告する。
机译:在实现量子技术(例如量子信息和量子计算机)的情况下,需要在任何定时产生一个光子的单个光电源。氮化镓半导体(GaN)中的分离的镧(LN)表示即使在室温下也具有窄线宽的高亮度,并且可以通过电流注入进行发光控制,因此SOC(芯片上的系统)单光子源应用可以被期望。因此,我们正在研究一种镨(PR)的单光子生成控制的研究,这是一种LN。这次,我们在GaN Nanopillar期间报道了PR的光致发光(PL)强度放大。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号