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【24h】

強誘電体FETのMOS界面における電荷分布の評価とデバイス動作の理解

机译:铁电FET的MOS界面评估和理解装置运行评价

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摘要

提案した準静的 Split C-V測定法は、FeFETの各分極状態における電子・正孔の面密度を評価できる手法である。結果として、分極反転に伴う大きな分極電荷はMOS界面近傍の捕獲電荷によって引き起こされており、反転層電荷の増大には繋がっていないことが示された。
机译:所提出的准静态分割C-V测量方法是能够评估FFET的每个偏振状态中电子和孔的表面密度的方法。结果,通过在MOS接口附近的电荷捕获电荷引起了与偏振反转相关的大的偏振电荷,并且显示了反转层电荷的增加未连接。

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