机译:具有自对准InAlP原生氧化物栅极电介质的0.25-μm栅极长度耗尽型GaAs沟道MOSFET的制备和性能
机译:用分子束外延生长三层PTSE2通道的亚微米级长度MOSFET的大规模制造
机译:基于自对准CMOS工艺的沟槽栅MOSFET的制造和表征
机译:由电子束光刻技术定义的蘑菇形栅极,其栅极长度可低至80 nm,并制造具有干蚀刻栅极凹槽的假晶HEMT
机译:使用磷化铟铝作为栅介质的亚微米栅长砷化镓沟道MOSFET的制备和性能。
机译:栅极长度变化对栅极优先自对准In0.53Ga0.47As MOSFET性能的影响
机译:基于氮化物界面层的具有高k栅极电介质叠层的锗mOsFET的设计,制造和表征