Memory R D Division, Hynix Semiconductor Inc., San 136-1, Ami-ri, Bubal-eub, Ichon-si, Kyungki-do 467-701 Korea;
thin organic BARC; KrF resist; 80nm node; patterning;
机译:新型纳米注入光刻技术(NInL)及其在16 nm节点器件制造中的应用
机译:NBTI对用于逻辑应用的14 nm节点FinFET技术影响的仿真研究:器件降级到电路级交互
机译:源自显示技术的薄膜器件的传感器应用
机译:KrF DBARC在先进光刻节点上的植入应用的实现
机译:使用热纳米压印光刻技术的纳米结构表面:在薄膜技术,压电能量收集和触觉压力感测中的应用。
机译:FDM和DLP 3D打印技术对RFID应用原型电磁装置的分析
机译:基于RF基于RF的应用技术在能量计量装置中的自动测试中
机译:嵌入在用于航天器飞行应用的高速网络结构中的小计算节点