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一种厚膜型KrF光刻胶组合物,其制备方法及应用

摘要

本发明公开了一种厚膜型KrF光刻胶组合物,其制备方法及应用。本发明的光刻胶组合物的制备方法包括以下步骤:将光刻胶组合物中的各个组分混合均匀,即可;所述的光刻胶组合物包括以下组分:光致产酸剂、树脂和溶剂。通过本发明的制备方法制得的光刻胶组合物形成的胶膜具有好的性能,具有好的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN112485965A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海新阳半导体材料股份有限公司;

    申请/专利号CN202011360660.2

  • 申请日2020-11-27

  • 分类号G03F7/004(20060101);C08F220/32(20060101);C08F212/14(20060101);C08F212/32(20060101);C08F232/08(20060101);C08F220/34(20060101);C08F220/36(20060101);

  • 代理机构31283 上海弼兴律师事务所;

  • 代理人王卫彬;陈卓

  • 地址 201616 上海市松江区思贤路3600号

  • 入库时间 2023-06-19 10:11:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-02-03

    授权

    发明专利权授予

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