公开/公告号CN112485965A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-12
原文格式PDF
申请/专利权人 上海新阳半导体材料股份有限公司;
申请/专利号CN202011360660.2
申请日2020-11-27
分类号G03F7/004(20060101);C08F220/32(20060101);C08F212/14(20060101);C08F212/32(20060101);C08F232/08(20060101);C08F220/34(20060101);C08F220/36(20060101);
代理机构31283 上海弼兴律师事务所;
代理人王卫彬;陈卓
地址 201616 上海市松江区思贤路3600号
入库时间 2023-06-19 10:11:51
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-02-03
授权
发明专利权授予
机译: 厚的化学放大正型光刻胶组合物,厚膜光刻胶层压板,制造方法的制造方法以及厚膜抗蚀剂图案的连接端子
机译: 用于KrF激光器的高分辨率和高纵横比的负型光刻胶组合物
机译: 用于半导体图案形成的KrF激光器的负型光刻胶组合物