learning (artificial intelligence); masks; regression analysis; ultraviolet lithography;
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:使用碱性溶液和有机溶剂的混合物除去EUV掩模的Ru覆盖层的EUV暴露的烃
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:EUV面具近场综合
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:使用电子束光刻写入的相位掩模通过近场全息术制造的软X射线变化线间隔光栅
机译:新型EUV面罩吸收器评估支持下一代EUV成像