EUV; EUV mask; thermal deformation; absorber; FEM simulation;
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:EUV掩模的严格电磁仿真:吸收体性能的影响
机译:极紫外掩模的热机械变化建模及其对吸收体变化的依赖性
机译:EUV面罩和吸收依赖性的热机械变化
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:使用极端紫外(EUV)辐射和EUV诱导的氮等离子体的聚醚醚酮(PEEK)的物理化学表面改性
机译:新型EUV面罩吸收器评估支持下一代EUV成像