GaAs/GaAlAs; wet etching; photoelectron; flawed surface; H_2O_2-NH_4OH;
机译:GaAs(211)B晶片的湿化学蚀刻,用于控制表面性质
机译:湿化学腐蚀法制备超疏水镁合金AZ31表面的腐蚀研究
机译:在n-GaAs(100)晶片表面上进行Pt的脉冲电镀:同步加速器诱导的光电子能谱和湿法制造工艺的XPS
机译:在湿化学蚀刻过程中GaAs外延晶片的缺陷表面研究
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:异丙醇浓度和刻蚀时间对低电阻晶体硅晶片湿化学各向异性刻蚀的影响
机译:基于臭氧的湿化学蚀刻过程中整个晶片表面的数值模拟