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【24h】

HiSIM-HVを用いたLDMOSオン抵抗の劣化モデルの開発

机译:使用HiSIM-HV开发LDMOS导通电阻的劣化模型

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摘要

本研究では,nチャネルLDMOSのHCI現象について回路シミュレータSPICEを用い,劣化を事前に予想するためのモデルを開発した.nチャネルLDMOSのデバイスモデルはHiSIM-HVを採用した.nチャネルLDMOSはオン抵抗が増加し劣化に繋がることから,nチヤネルLDMOSの構造とオン抵抗の関係性を調ベHiSIM-HVとの対応を論じ,劣化抽出するめのパラメータを予想した.論文データと測定データからパラメータ抽出を行い,予想したパラメータを増加させることで劣化抽出をした.劣化は,パラメータ変化を式化しパラメータと置き換えることで表現を可能にした.
机译:在本研究中,我们使用电路仿真器SPICE为n沟道LDMOS的HCI现象预先开发了预测劣化的模型,n沟道LDMOS的器件模型采用HiSIM-HV。调整LDMOS通道的导通电阻和导通电阻,讨论与HiSIM-HV的对应关系,并预测劣化提取的参数,从纸张数据和测量数据中提取参数,并通过增加预期参数来提取劣化。通过制定参数更改并将其替换为参数来表示。

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