Extreme ultraviolet lithography; Anion-bound polymer; Acid generation mechanism; Quantum efficiency; γ radiolysis;
机译:用于极端紫外光刻的阴离子结合化学放大抗蚀剂中的产酸机理
机译:极紫外光刻中用于阴离子结合的化学放大抗蚀剂中酸生成的建模和模拟
机译:极紫外光刻中用于阴离子结合的化学放大抗蚀剂中的电子和空穴转移
机译:用于极端紫外光刻的阴离子结合化学放大抗蚀剂中的产酸机理
机译:用于下一代光刻的新型化学放大抗蚀剂的开发和高级表征
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:在暴露于极端紫外线辐射时,阴离子结合的阴离子结合的酸量子效率
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。