机译：阴离子结合化学放大的抗蚀剂在暴露于极紫外辐射下的酸量子效率
机译：在暴露于极端紫外线辐射时，阴离子结合的阴离子结合的酸量子效率
机译：聚（羟基苯乙烯）-和聚丙烯酸酯-基化学放大的酸产生机理之间的区别在于暴露于极紫外辐射下
机译：用于极端紫外光刻的阴离子结合化学放大抗蚀剂中的产酸机理
机译：极紫外光致抗蚀剂：薄膜抗蚀剂的薄膜量子产率和LER。
机译：通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译：用于极端紫外光刻的分辨率模糊与化学放大抗蚀剂随机缺陷的关系
