Interferometric; deep-UV; wiregrid polarizers;
机译:用于纳米压印光刻的混合掩模模具的激光干涉和光刻组合图案。
机译:通过结合纳米压印光刻和接触印刷来复制DNA亚微米图案
机译:光刻与激光干涉光刻相结合的技术研究周期性纳米图案的润湿性能
机译:深紫外干涉光刻技术与掩膜接触光刻技术相结合的像素线栅图案
机译:通过干扰光刻纳米制造:从图案化到图案转移
机译:直接接触印刷光刻技术在软基板上构图的阵列金属纳米结构的波导等离子体共振
机译:高分辨率纳米透明机构:近期纯粹和经济高效的自上而下的光刻的最新进展,用于≈10nm尺寸纳米图:从边缘光刻到次级溅射光刻(ADV。Mater。35/2020)